Nga phát triển máy quang khắc EUV độc lập thách thức ASML

Máy EUV là công cụ quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn tiên tiến, công ty ASML của Hà Lan hiện đang chiếm lĩnh thị trường này. Kế hoạch của Nga dự kiến sẽ phát triển một máy EUV với cơ chế khác biệt so với ASML, đồng thời có thể thay thế hoàn toàn các công cụ sản xuất chất bán dẫn hiện có.

Công nghệ quang khắc EUV của ASML sử dụng ánh sáng cực tím với bước sóng 13,5 nm, trong khi Nga đặt mục tiêu phát triển thiết bị với bước sóng ngắn hơn là 11,2 nm nhằm giảm chi phí sản xuất và vận hành.

Nga có thể cần đến 10 năm để có máy EUV riêng

Quá trình phát triển công cụ phơi sáng EUV của Nga được chia thành ba giai đoạn: (1) nghiên cứu cơ bản và xác định các công nghệ cần thiết; (2) tạo ra nguyên mẫu có khả năng xử lý 60 wafer 200mm mỗi giờ; và (3) phát triển mô hình sản xuất hàng loạt có khả năng xử lý 60 wafer 300mm mỗi giờ.

Tuy nhiên, để sản xuất chất bán dẫn bằng thiết bị EUV bước sóng 11,2 nm, Nga sẽ phải cải tổ toàn bộ hệ sinh thái sản xuất vì các công cụ thiết kế và thiết bị ngoại vi hiện tại đều được chế tạo cho bước sóng 13,5 nm của ASML. Mặc dù Nga chưa công bố thời gian cụ thể cho việc phát triển thiết bị này, nhưng theo thông tin từ Tom's Hardware, việc cải tổ hệ sinh thái có thể mất từ vài năm đến 10 năm.

Trong khi đó, Trung Quốc cũng đang nỗ lực xây dựng một hệ sinh thái sản xuất chất bán dẫn độc lập trong bối cảnh các lệnh cấm liên tục diễn ra.